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医药口服液胶体磨,口服液研磨均质机

CM2000

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上海依肯机械设备有限公司

德国

产品规格型号
参考报价:

1-5万元

品牌:

IKN

型号:

CM2000

关注度:

2437

范围(量程或细度):

0-2微米

创新点:

IKN研磨机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

应用行业:

化工 食品 医药

典型用户:

四川 湖北 河南

产品介绍

医药口服液胶体磨,口服液研磨均质机,口服混悬液胶磨机,口服混悬液胶体磨,医药混悬液胶磨机,混悬液胶磨机,混悬液高剪切胶磨机

 

IKN研磨机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

 

口服混悬液胶磨机,口服混悬液高剪切胶体磨,通过超高的转速和剪切速率减小物料微粒的粒径,配合正确的工艺,从而使混悬液达到一种稳定的状态。

混悬液的贮存存在物理稳定性问题。混悬液中药物微粒分散度大,微粒与分散介质之间存在着物理界面,使混悬微粒具有较高的表面自由能,混悬剂处于不稳定状态。疏水性药物的混悬剂比亲水性药物存在更大的稳定性问题。若要制得沉降缓慢的混悬液,应减少颗粒的大小,增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。

 

 

口服混悬液胶磨机de 剪切速率可以超过10000rpm,转子的速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布就更窄。

 

 

CMD2000模块主要由两层分散头构成,工作时,物料通过投料口进入分散腔,首先到达层分散头进行处理,由于马达带动转子齿列高速运转,产生涡流和离心力效应使得物料轴向吸入分散头,然后沿着定-转子之间的缝隙被高速压出完成次剪切作用,之后在转子齿列与定子齿列的强力剪切间隙中物料被强烈撕裂后从定子齿列缝隙中流出时完成第二次剪切,接着流出的物料进入第二层分散头腔体,对处理过的物料再次进行剪切(原理同上),从而确保混合分散获得很窄的粒径分布,获得更小的液滴和颗粒,生成的混合液稳定性更好,满足疫苗生产对于粒径的要求。

 

 

口服混悬液胶磨机,主要通过液滴在高速旋转的转子和定子间的间隙内被剪切,以及由此间隙和转子—定子上小孔射流的综合效应来实现。高速旋转的液滴受惯性离心力的推动,具有极大的冲击力,因而产生撞击作用。离心力的作用使未进入环隙时的液体具有一定压力,而进入环隙后成为高速旋转液流,液体离开定子小孔后压力又回升,所以也有一定的空穴效应。高剪切均质机高速旋转时的液滴流动状况相当复杂,主要受控于作用在液滴表面不断变化的流动速度和由此产生的脉动压力,从而发生了分裂液滴的张力,使液滴破裂。

 

 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN


CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15


CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32


CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65


CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65


CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125


CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150



流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到**允许量的10%。

 

剪切速率取决于以下因素: 

§  转子的线速率

§  在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

 

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

口服混悬液胶磨机,口服混悬液胶体磨,医药混悬液胶磨机,混悬液胶磨机,混悬液高剪切胶磨机

 




 


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医药口服液胶体磨,口服液研磨均质机

CM2000

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