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碳纳米锂电浆料分散设备

CMD2000

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上海依肯机械设备有限公司

德国

产品规格型号
参考报价:

10-20万元

品牌:

IKN

型号:

CMD2000

关注度:

2036

范围(量程或细度):

0-2微米

创新点:

设备运转速度高达14000转,是目前普通设备的4-5倍,高效细化分散研磨物料,采用德国双端面机械密封,在保证有冷却水的情况下,可以24小时连续不间断工作

应用行业:

新材料,锂电

典型用户:

湖南,四川,北京,上海

产品介绍

碳纳米锂电浆料分散设备,碳纳米管导电浆料分散机,高转速分散机

 

碳纳米管是一种新型的碳素材料,由呈六边形排列的碳原子构成数层至数十层的同轴圆管,层与层之间保持固定的距离,约0.34nm,直径一般为2-20纳米。

  

碳纳米管以其优异的性能,在塑料改性,微型电路芯片,静电屏蔽,锂电池电极等领域有着广泛应用。

 

 

碳纳米管导电浆料优缺点

(1) 碳纳米管具有良好的电子导电性,纤维状结构能够在电极活性材料中形成连续的导电网络;

(2) 添加碳纳米管后极片有较高的韧性, 能改善充放电过程中材料体积变化而引起的剥落, 提高循环寿命;

(3) 碳纳米管可大幅度提高电解液在电极材料中的渗透能力;

(4) 碳纳米管的主要缺点在于不易分散,与液体借出后容易团聚,粉末还满天飞扬。

 

碳纳米管分散难点

碳纳米管导电浆料分散机,碳纳米管分散,其实也就是所谓的纳米级物料的分散,在做纳米粉体分散或研磨时,因为粉体尺度由大变小的过程中,范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的分散设备来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响,是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米级粉体研磨及分散的关键。

想要解决这些难点并不困难,只要充分的将碳纳米管粉料与介质(水、NMPPVDF)等充分分散均匀即可。IKN研磨分散均质机是针对易团聚且分散效果不好的物料研发的,其设计上是采用胶体磨与分散机结合设计而成,也是胶体磨的升级版本,上面一层采用锥体磨设计,使得物料能够在定转子间距小的间隙(间隙可调)间进行研磨,研磨后的物料瞬间进入第二层分散均质层进行剪切分散均质。除此之外还具有以下特点:

1、设备运转速度高达14000转,是目前普通设备的4-5倍,高效细化分散研磨物料

2、定转子之间的间隙是可调的,研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺

3、胶体磨头设有三道磨碎区,一层为粗磨碎区,二层细磨碎区,三层为超微磨碎区,通过调整定、转子的间隙,能有效地达到所需的超微粉碎效果(也可循环加工)。

4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热

5、采用德国双端面机械密封,在保证有冷却水的情况下,可以24小时连续不间断工作

6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验,无需重新调整实验数据,降低了设备投资的风险

 

从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:

1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)

2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)

5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)

 

线速度的计算:

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

 

设备其它参数:

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择 380V/50HZ220V/60HZ440V/50HZ
电机选配件 PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质SUS304 SUS316L SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

 


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