SANVAC 小型高温真空炉为实验室研发、小试样烧结、热处理、钎焊、脱气专用紧凑型真空热处理设备，主打小容积、高真空、快速升温。采用钨 / 钼加热器 + 多层辐射反射屏结构，可达 1800℃高温，可实现高真空环境（可达 9.0×10⁻⁴Pa 级别），支持真空、惰性气氛工艺。设备炉体紧凑占地小，配备程序温控系统，可设定多段升温 / 保温 / 降温曲线，适合陶瓷、金属粉末、硬质合金、功能材料、稀有金属试样的烧结与热分解处理，广泛用于高校、材料研究所、企业研发实验室的新材料开发与小样工艺验证。

本装置用于在高温、真空环境下对小型试样进行热处理。特点：可在 60min 内升温至 1700℃，实现快速升温。