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可见-近红外高光谱显微成像系统

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北京欧普特科技有限公司

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520

产品介绍

特点

高光谱显微镜的各个模块相对独立性高,便于固件升级 以及替换;高光谱成像仪采用美国Headwall公司高光谱分辨率成像仪,采集数据准确可靠;客户端操作系统人性化,便于用户高光谱数据采集操作。

应用领域:生物、制药、病理、化工、血液、细胞、基因工程等。

基本原理:利用自动扫描平台得到细分显微成像区域每个像元的光谱,而不是传统的显微成像区域的混合光谱。

技术指标:

可见-近红外显微物镜;

百万像元 CCD

推扫式全反射成像光谱仪:VNIR(400-1000nm) 或 者NIR(900-1700nm)可选;

细分像元个数:取决于所选择的成像光谱仪的像元数; 软件控制的电动扫描平台;

透射或者反射式全光谱照明光源可选;

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