Ge衰减全反射（ATR）棱镜

Ge是用于制造光谱学衰减全反射（ATR）棱镜的高折射率材料。 其折射率使得锗在不需要涂层的情况下产生有效的自然的50％分束器。 锗也广泛作用于生产光学滤波器的衬底。 锗覆盖整个8-14um热能带，并用于热成像的透镜系统中。 锗可以被AR涂覆金刚石，产生非常坚韧的光学窗口。

比利时，美国，中国和俄罗斯的少数制造商生产Ge使用Czochralski技术生长。 锗的折射率随温度迅速变化，并且随着带隙用热电子流，材料在所有波长稍高于350K时变得不透明。

产品参数：

透射范围：1.8?23μm（1）

折射率： 4.0026 at 11μm（1）（2）

反射损耗： 53％ at 11μm（两个表面）

吸收系数：<0.027cm-1 @10.6μm

吸收峰： n / a

dn / dT： 396×10^-6 /℃（2）

dn /dμ= 0： 几乎恒定

密度： 5.33g / cc

熔点： 936℃（3）

导热系数： 58.61 W m^-1 K^-1 at 293K（6）

热膨胀： 6.1×10-6 /℃ at 298K（3）（4）（6）

硬度： Knoop 780

比热容量： 310JKg^-1K^-1（3）

介电常数： 16.6 at 300K，9.37GHz

杨氏模量（E）： 102.7GPa（4）（5）

剪切模量（G）： 67GPa（4）（5）

体积模量（K）： 77.2GPa（4）

弹性系数： C11 = 129; C12 = 48.3; C44 = 67.1（5）

表观弹性极限： 89.6 MPa（13000 psi）

泊松比： 0.28（4）（5）

溶解性：不溶于水

分子量： 72.59

类别/结构： 立方钻石，Fd3m

折射率：

No = Ordinary Ray

订购信息：