粉体行业在线展览
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CM-014
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成都汉普升科技有限公司
四川成都
100-150万元
超迈光电
CM-014
908
●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
CM-008
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TH-F120
BL-GHX-VK
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线性压电纳米位移台MF40-25A
InSight 软包电池透射X射线衍射仪
ParticleX TC
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Lyza 3000
在线浊度计
SCI300
