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日本 NAS 技研 VPDBOX 气相分解预处理装置(VPD 气相反应盒)

VPDBOX

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深圳森泽工业品有限公司

日本

产品规格型号
参考报价:

1万元以下

型号:

VPDBOX

关注度:

201

范围(量程或细度):

0-0.05

创新点:

采用 HF 自然气化静态气相反应,无药液直接浸泡晶圆,不会对硅片基体造成过度蚀刻,仅精准剥离表面氧化 / 氮化薄膜,完美保留晶圆本体完整度,避免湿法预处理带来的晶圆损耗与杂质二次扩散。

产品介绍

VPD BOX 特点
●该装置利用氢氟酸液的自然气化作用,使硅晶圆表面的氧化膜和氮化膜发生气相分解,从而让晶圆表面呈现疏水状态。
●与酸液及酸性环境接触的部位采用了PTFE和PVDF材料。
●请与半自动回收装置SC系列一起使用。


装置名VPDBOX-200-1MVPDBOX-300-1MVPDBOX-300-5MVPDBOX-300-6M
**处理枚数1枚1枚5枚6枚
对应
管片
尺寸
100毫米
125毫米
150毫米
200毫米
300毫米
外形(W×D×H)(毫米)(※1)290×290×250390×390×250410×405×410410×405×460
重量6公斤8公斤15公斤18公斤
使用场所清洁气流内部
外部资源N2气体(用于酸性气氛吹扫)

※1:不包括突起物。

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日本 NAS 技研 VPDBOX 气相分解预处理装置(VPD 气相反应盒)

VPDBOX

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