产品介绍
　平板型氧化铝研磨微粉产品介绍 一、企业概况： 无锡中晶材料科技有限公司是专业从事 “平板状氧化铝研磨抛光微粉”(TWA 系列产 品 ) 的生产、研发、销售于一体的科技型企业，已通过ISO：9001-2000国际质量标准，具有国际先进水平的生产线和一流的员工队伍, 拥有 Coulter Multisizer II型粒度分析仪和其它精密的质控仪器。该产品填补了国内在高档磨料上的空白 , 改变了我国长期依赖进口的局面 , 现已稳定地供应给美国、日本、韩国、马来西亚、台湾地区以及国内众多企业。 二、产品介绍： 该研磨抛光微粉是以工业氧化铝为主要原料 , 采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小 , 经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石 , 是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。 1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能 : 平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构 , 硬度高达莫氏九级 , 磨削力强 , 不易产生划痕 , 可得到高效率、高精度的被加工表面 , 有特殊设计的粒度分布 , 质量和日本 FUJIMI公司相当。 2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点 1）平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的大区别是：片状，硬度高，粒度均匀。 2）特点为： A、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍； B、由于形状为平板状，故对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提高10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99%以上； C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%； D、与国外同类产品相比，质量达到或超过国外同类产品，品质已达到国际标准，但产品价格只有国外同类产品的60%--70%； E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，质量稳定，生产成本只有原来的50%-60%。（具体数据可见用户报告） 3、平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途 : 1）电子行业 : 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。 2）玻璃行业 : 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。 3）涂附行业 : 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。 4）金属和陶瓷加工业。 氧化铝(AL2O3)性能指标： 物理指标： 　 化学名称 外观　密度 　莫氏硬度 　　显微硬度 α- AL2O3 白色　3.95-3.98g/cm3 9.0　2200-2300kg/mm 化学指标： 　　 化学成份 指标(%) 测度结果(%) AL2O3 ＞99.0 99.36 SiO2 ＜0.2 0.027 Na2O ＜0.6 0.35 Fe2O3 ＜0.1 0.03 产品粒度： 粒度号 平均粒度D50%　(µm) TWA50 　44.5±2.5 TWA45 　36.0±2.3 TWA40 　31±2.0 TWA35 　25.5±1.7 TWA30 　21.5±1.5 TWA25 　17.4±1.3 TWA20 　14.2±1.0 TWA15 　10.5±0.8 TWA12 　8.2±0.6 TWA9 　6.4±0.6 TWA5 　4.7±0.5 TWA3 　　　　3.1±0.4