CMP产业新动态：抛光液升级、抛光垫创新与设备服务拓展
博来纳润钽酸锂衬底CMP抛光液再升级 近日，据浙江博来纳润消息，博来纳润研发团队推出的三款钽酸锂衬底CMP抛光液通过客户实测验证。该产品线覆盖碱性、中性、酸性各加工工艺的需求，且均具备优异的去除速率、高储存稳定性和抛光后易清洗等优点。
