首页参展厂商展商动态产品汇总技术文章快速采购通道我的商务中心
您现在的位置:网上粉体展 > 窑炉设备频道 > 回转炉专场 > 一种新型硅碳气相沉积专用炉(CVD炉)
厂商性质:生产商
商品人气:1717
联系人:吴毅
查看联系方式
我要留言
一种新型硅碳气相沉积专用炉(CVD炉)
产品型号:HF-RL系列
供应商报价:面议
产地:陕西咸阳
产品特点:纳米硅气相沉积碳专用炉,设备运行能耗低,稳定性好,沉积效果佳。
发布时间:2020-06-15
所属分类:首页 > 窑炉设备频道 > 回转炉专场 > 一种新型硅碳气相沉积专用炉(CVD炉)
  • 产品简介
  • 应用行业
  • 典型用户

设备介绍:

用途:该设备专业应用于硅碳的使用气相沉积法的制备。

(1) 该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司自主设计的专业应用于硅碳负气相沉积法

(2) 该设备使用客户众多

(3) 该设备经过实践验证,运行稳定

(4) 该设备比别的设备同等工艺做出来的材料品质高20%以及以上

(5) 该设备一致性好,经过长期验证,做出来的材料品质变化较小

(6) 该设备经过大量客户的反馈,我司可以不用去人到现场的情况下恢复设备*初品质

设备多种参数可供选择

型号

加热区Φ×L(mm)

功率

**温度

温区

外形尺寸L×W×H(mm)

HF-RL15.200

150×1000

12kw

950

3

3000×900×1600

HF-RL20.300

200×2000

30kw

950

3

5000×1000×2200

HF-RL30.500

300×3000

54kw

950

6

7500×1000×2500

HF-RL40.700

400×5000

96kw

950

6

10000×1200×2500

HF-RL50.800

500×6000

168kw

950

6

11500×1400×2500

HF-RL60.1000

600×8000

234kw

950

9

14000×1500×2600

HF-RL80.1200

800×9000

342kw

950

9

16000×1800×2600

HF-RL120.1500

1200×11000

648kw

950

9

19500×2300×2800

HF-RL180.2000

1800×16000

1260kw

950

12

26000×3000×2800

技术介绍:

(1)该设备采用电加热(380V50HZ)

(2)设备采用PLC控制模式

(3)设备耐火材料全部选取高档的氧化铝纤维,热效率高

(4)设备采用动态加热技术,更好的匹配硅负极的工艺要求

(5)该设备采用鸿峰公司**密封方式,密封性优良

(6)该设备采用多点测温,多点控制。可以实时确认温度

(7)该设备为连续式生产设备

 鸿峰窑炉硅负极专用炉,您值得信赖的合作伙伴。

关于我们 - 服务专区 - 法律声明 - 诚征合作 - 友情链接 - 广告服务 - 付款方式 - 联系我们

中国粉体网 网上粉体展 版权所有

Powdershow.com.cn Copyright(C)2002-2013,All Rights Reserved

版权所有 未经书面授权,所有页面内容不得以任何形式进行复制