应用领域：芯片材料研发，国防、航天应用比较广泛；物料对金属的敏感度很高，投料、反应人为干预越少越好；
反应参数
产品名衬四氟半自动化釜
温度120℃
压力3MPa
搅拌磁子搅拌
材质316L
四氟PP级四氟（适用于单晶硅类的材料研发）
应用领域芯片材料研发，国防、航天应用比较广泛；物料对金属的敏感度很高，投料、反应人为干预越少越好；
