首页参展厂商展商动态产品汇总技术文章快速采购通道我的商务中心
您现在的位置:网上粉体展 > 分析仪器设备频道 > 半导体行业专用仪器专场 > Model 6020S紫外光刻机
厂商性质:生产商
商品人气:1330
联系人:销售部
查看联系方式
我要留言
Model 6020S紫外光刻机
产品型号:
供应商报价:面议
产地:美国
发布时间:2023-08-01
所属分类:首页 > 分析仪器设备频道 > 半导体行业专用仪器专场 > Model 6020S紫外光刻机
  • 产品简介
  • 应用行业
  • 典型用户

OAI的面板级掩模光刻机 Model 6020S

用于FOPLP型号6020S -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm晶圆尺寸的FO-PLP加工.

OAI’s Panel Level Mask Aligner for FOPLP Model 6020S - Semi or Automated

Enabling FO-PLP Processing at 500mm x 500mm Wafer Sizes

OAI掩模对准器,不同的印刷方式

距离: 间隙可设置在一个非常宽的范围内,增量精度1μM

软接触: •基材被带入非常柔软的机械接触曝光时的掩模。通过接触力可调软件设置

金属触点: •接触额外的氮气压力

真空接触: •真空级别控制接触力。真空度为由用户设置

OAI Mask Aligners

Various Printing Modes

PROXIMITY:

• THE GAP IS SETTABLE OVER A VERY WIDE RANGE WITH AN INCREMENTAL PRECISION OF 1μM

SOFT CONTACT:

• SUBSTRATE IS BROUGHT INTO VERY SOFT MECHANICAL CONTACT WITH THE MASK DURING EXPOSURE. THE CONTACT FORCE IS ADJUSTABLE VIA SOFTWARE SETTINGS

HARD CONTACT:

• CONTACT WITH ADDITIONAL N2 pressure VACUUM CONTACT:

• VACUUM LEVEL CONTROLS THE CONTACT FORCE. LEVEL OF VACUUM IS SET BY USER

关于我们 - 服务专区 - 法律声明 - 诚征合作 - 友情链接 - 广告服务 - 付款方式 - 联系我们

中国粉体网 网上粉体展 版权所有

Powdershow.com.cn Copyright(C)2002-2013,All Rights Reserved

版权所有 未经书面授权,所有页面内容不得以任何形式进行复制