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小型离子溅射仪
产品型号:
供应商报价:面议
产地:美国
发布时间:2023-08-01
所属分类:首页 > 分析仪器设备频道 > 制样/消解设备专场 > 小型离子溅射仪
  • 产品简介
  • 应用行业
  • 典型用户

108真空镀膜仪是一款结构紧凑的手动型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

主要特性

l通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。

l操作容易快捷,控制的参数包括放气以及氩气换气控制。

l可用MTM-10高分辨膜厚控制仪(选件)精确测定所镀膜的厚度。

l数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和**的镀膜效果。

l可使用多种金属靶材:Au Au/Pd,Pt,Pt/PdAu靶为标配),靶材更换快速方便。

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技术参数

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溅射系统

样品室大小

直径120mm x 120mm

靶材

Au 靶为标配, Au:Pd, Pt, Pt:Pd (选件);

大小:直径57mm x 0.1mm

样品台

可以装载12SEM样品座,高度可调范围为50mm

溅射控制

微处理器控制,安全互锁

溅射电流

5~45mA可调

溅射头

低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩

计量表

真空: Atm - 0.001mbar,电流:0~50mA

厚度监控 (选件)

使用MTM-10高分辨厚度监控仪(选件)精确测定所镀膜的厚度

控制方法

具有气体换气和泄气功能,带有“暂停”控制的数字定时器(5300s

真空系统

真空泵

2级直连式高速真空泵

抽气速率

3.0 m3/小时,真空度到 0.1mb所需时间30.

极限真空

5 x 10-3mba

桌上系统

真空泵可置于抗震台上,全金属集成耦合系统

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