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EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
产品型号:
供应商报价:面议
产地:俄罗斯
发布时间:2023-08-09
所属分类:首页 > 分析仪器设备频道 > 光学仪器及设备专场 > EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
  • 产品简介
  • 应用行业
  • 典型用户

EFO-COMB光学频率梳光梳合成器

EFO-COMB光学频率梳光梳合成器基于飞秒锁模铒掺杂PM光纤激光器,具有4个PM光纤耦合输出,包括用于产生超连续谱的掺Er光纤放大器,以及带有同步和锁定电子器件的f-2f干涉仪。

  • 全光纤PM方案

  • 全天候运营

  • 完整的单源频梳系统

  • 520-2200 nm全光谱覆盖范围

EFO-COMB光学频率梳前面板

EFO-COMB光学频率梳后面板

EFO-COMB光学频率梳光梳合成器将飞秒锁模掺铒光纤激光器与4个光纤耦合激光器输出,带有超连续谱发生器的光纤放大器和f-2f干涉仪相结合。全PM光纤方案可确保系统不间断运行。EFO-COMB可以为每种情况单独配置单独的控制架,包括控制和电源单元,相位偏移调谐单元,数据收集和可视化单元以及许多其他可能的选项。

该系统还可配备:1560 nm的光纤放大器,780 nm输出的SHG单元,1000-2200 nm的超连续谱发生器,520-1000 nm的超连续谱发生器,差频发生器(DFG)。

产品规格:

规格EFO-COMB
梳齿间距 (Frep)100 MHz
稳定性(连接微波参考源)<5·10 ^ -13@1s或与参考相同
调整梳齿间距范围> 0.7 MHz
调整偏移频率Fceo的范围> 100 MHz
光输出

2或4个光纤耦合输出端口或准直自由空间输出,1560 nm,520-1000 nm,1000-2200 nm

其他波长可根据要求提供(可选)

中心波长(固定)1560±10nm
全光谱覆盖范围(附加选项)520-1000 nm,1000-2200 nm,其他波长可根据要求提供
输出功率每个输出> 5 mW;

> 150 mW @ 1560 nm(可选);

> 200 mW @ 1000-2200 nm(可选);

> 80 mW @ 520-1000 nm(可选)

光学单元尺寸(长x宽x高)356 x 492 x 110mm
控制架尺寸(宽x长)640 x 553 mm(机架高度取决于精确配置)

参考文献:

Article: Methane based microwave reference oscillator

Article: Femtosecond optical-to-microwave frequency divider with a relative instability of 10^-14 to 10^-16 (t=1-100 s)

Article: Application in an Optical Clock System

Article: Femtosecond Er3+ fiber laser for application in an optical clock

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