创新型冷场发射电子枪具有超高分辨率和电子束稳定性
这种新型的冷场发射电子枪采用日立**的“柔性闪烁”“Mild flashing”技术和全新改进的真空系统，在发射极尖端极大限度减少气体分子附着。 发射极始终运行于“洁净”的状态，发射电流和电子束稳定性显著提升。 即使在低加速电压下，也可以得到高信噪比的SEM信号并进行高分辨观察。 这些增强性能开辟了低电压下元素微量分析的全新里程。
SU8200系统具备全新设计的顶端过滤器，可增强电子检测特性。 通过选择性地过滤非弹性散射电子和直接检测特定能量的背散射电子，可实现良好的对比度。 这种选择性的过滤，在提高低加速电压下成分对比度方面尤为强大。样品台和样品室的防震措施以及光学系统的优化有助于提高分辨率：15 kV时0.8 nm，1 kV时 1.1 nm。
| SU8220 | SU8230 | SU8240 | ||
|---|---|---|---|---|
| 二次电子分辨率＊1 | 0.8 nm (Vacc 15 kV， WD=4 mm， 放大倍数 270 k×) 1.1 nm (着陆电压 1 kV， WD=1.5 mm， 放大倍数 200 k×)＊2 | |||
| 着陆电压 | 0.01～30kV | |||
| 放大倍数 | 20-1，000，000×＊3 | |||
| 样品台控制 | 5轴马达台 | 5轴马达台 | 5轴马达台 Regulus®样品台＊4 | |
| 行程范围 | X | 0～50mm | 0～110mm | 0～110mm |
| Y | 0～50mm | 0～110mm | 0～80mm | |
| R | 360° | |||
| Z | 1.5～30mm | 1.5～40mm | 1.5～40mm | |
| T | -5～70° | |||
| 样品台回位精度 | - | - | ±0.5μm或以下 | |
*1：
使用日立高新技术样品在扫描电子显微镜图像测量*小的粒子间隙
*2：
减速模式观察
*3：
基于127 mm x 95 mm底片指定的放大倍数
