器简介：射频离子源：用于离子束沉积，离子束辅助沉积，MEMS

射频原子源：用于合成氧化物，氮化物，氢原子清洗

技术参数：

射频离子源

安装法兰口径：NW63CF，NW100CF

真空腔体内长度：290mm

真空腔体内端面直径：57mm， 96mm

兼容气体：O2， N2， H2， Ar

水冷

射频功率：30-600W

气体流量：8-10sccm

束流能量：0.1-1kev

电流密度：可大到5mA/cm2

射频原子源

安装法兰口径：NW35CF，NW63CF，NW100CF

真空腔体内长度：290mm

真空腔体内端面直径：34mm，57mm， 96mm

兼容气体：O2， N2， H2， CH4

水冷

射频功率：30-600W

气体流量：0.01-20sccm

主要特点：

无灯丝

安装容易，可方便地安装在已有系统上