1、产品信息   

2、产品规格

定制

3、产品概述

V（钒）靶材是一种用于物理蒸发沉积和物理气相沉积的材料，通常用于制备薄膜和涂层。钒靶材具有良好的化学稳定性和热稳定性，可用于制备具有特殊电学、光学和磁学性能的材料。它在半导体、光学涂层、磁性材料和其他电子器件的制备中具有广泛的应用。钒靶材通常以圆盘或矩形形式供应，可根据客户的需求进行定制加工。

4、产品用途

半导体行业：用于制备薄膜材料，如氧化钒薄膜，用于电子器件的制备。

光学涂层：用于制备具有特殊光学性能的涂层，如反射镜、滤光片等。

磁性材料：钒靶材也可以用于制备磁性薄膜，用于磁存储器件、传感器等。

其他电子器件：用于制备电子器件的功能性薄膜，如传感器、显示器件等。