单蒸发皿程控镀膜仪
光洁真空腔室，易清洁和放入样品；
旋转样品台，可获得更均匀的薄膜样品；
采用特质钨丝加热器，**温度可达1500°C；
内置分子泵机组，可获取更高真空；
控温模式可选，手动加程序控温可随意选择。
基于客户需求设计的一款针对电极制备和有机物发光LED的镀膜设备，较常规产品，该产品新增旋转样品台和程序控温功能。精确控制温度200°C-1500°C，**可蒸镀直径50mm薄膜样品，可用于制备金属薄膜和有机物薄膜。
