溅镀系统

‌        溅镀系统‌主要由以下几个部分组成：真空室、排气系统、溅射源和控制系统。其工作原理分为抽真空、辉光放电和溅射三个阶段。首先，通过抽气系统将真空室内的空气抽出，达到所需的真空度；然后，通过高压电离室内气体产生等离子体；*后，高能粒子轰击靶材表面，使靶材表面的原子被溅射出来，沉积在基片上形成所需膜层‌