T-G01一体机是基于一台套机架基础上，分别可实现低速(100-650RPM)搅拌棒结构研磨组件采用2-6.5mm磨介球处理粗颗粒(粒度几十上百微米)，迅速研磨、分散到微米/亚微米级(0.5μm以上);再通过更换研磨组件(用研磨盘结构)和磨介球(用0.05-2mm)，转速可调范围1000-4200RPM，物料粒度可从微米/亚微米级，研磨分散至纳米级(500nm以下)。

一台设备解决实验所需的粗磨和细磨的处理要求，处理量在200-500ml，研磨组件和研磨缸材质可根据物料要求配置。同样可实现惰性气体保护、防爆、液氮研磨等特殊工况的定制化要求。