其它辅助设备-日本 NAS 技研 BEM-310 批量基体蚀刻装置（晶圆体蚀刻设备）-深圳森泽工业品有限公司-产品详情

日本 NAS 技研 BEM-310 批量基体蚀刻装置（晶圆体蚀刻设备）

BEM-310

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深圳森泽工业品有限公司

日本

产品规格型号

参考报价：

1-5万元

型号：

BEM-310

关注度：

211

范围（量程或细度）：

0-0.05

创新点：

区别于传统药液浸泡湿法蚀刻，依靠 HF 气体 + 臭氧反应实现硅基体剥离，晶圆表面全程无液态水滴附着，不会造成杂质随液体流窜二次污染，从源头保证深层金属污染物定位精准，检测结果可信度大幅提升。

产品介绍

这是一种利用臭氧和HF对硅晶圆整个表面进行体蚀刻的装置。
由于是气体蚀刻，晶圆表面不会产生水滴。
晶圆中的污染物不会通过蚀刻作用转移到其他位置。
这是在洁净室中使用的独立式设备。

蚀刻是对单片材料进行整体处理，但通过映射采集也可实现局部评估。
晶圆的搬运需要人工操作，但设备控制则通过电脑完成，因此操作起来十分简单。

装置名			BEM-310
对应晶圆尺寸			200毫米、300毫米
操作			本体内置的电脑
批量蚀刻功能			〇
回收率能力			±10％以内
蚀刻后的平整度			±10％以内
外形（宽×深×高）（毫米）（※1）			1000×1300×2000
重量			约150kg
使用设备			酸排水、一般排气、酸排气
必要实用工具			电源（AC100V,200V）、纯水、O2、N2、HF

※1：不包括凸起物。

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