主要用于清除半导体及液晶制造设备（如离子注入、CVD、蚀刻等工艺）中产生的气体反应产物——即微粉尘。
该技术能够利用旋流吸附原理以及高效磁元件，彻底清除从离子注入和CVD设备中排出的、直径小于1微米的反应产物。由于该装置的压力损失极小，因此可以用于真空泵的前后阶段；它是一种能够轻松处理那些现有过滤器无法去除的微粉尘的先进过滤装置。使用该装置可大幅减少维护工作量，同时提升生产效率。

		元素类型	漩涡型	组合型
外观 ＆ 结构
特拉帕克 元素		有	—	有
漩涡型元素		—	有	有
安装位置		真空系统/排气系统	真空系统/排气系统	排气系统
压力损失		极小	零	极小
用途	适用工艺	离子注入/蚀刻	CVD/蚀刻	CVD/蚀刻
	气体	BF3, AsH3, PH3 BCL3, CL2	SiH4, NH3, NF3 BCL3, CL2	SiH4, NH3, NF3 BCL3, CL2

特拉帕克的组件

Trapack元件是一种具有特殊功能的高性能离子交换纤维，它能将反应产物（粉末）吸附在纤维表面。它有两种形式：呈成型状的“Trapack元件”，以及呈织物状的“Uzu元件”。

特拉帕克元素	漩涡元素

Trapack元件

Trapack元件的种类繁多，其形状和密度也各不相同。而涡流元件则因NEWTrapack产品的型号和规格不同而有所差异。

吸附的机制与实际效果

• 磁力纤维功能
  

  正负离子交换纤维的表面会吸附反应生成的粉末。这些粉末逐渐堆积，从而使磁力纤维变粗。

• 使用Trappack元件后
  

  Trappack元件能够将反应生成的粉末从元件表面捕获到深层区域，其捕获能力可达自身重量的10倍以上。

• 使用涡流元件后

  涡流元件被安装在涡流结构装置中，废气中的反应生成物会在涡流作用下不断碰撞，从而被吸附捕获。

特征

特拉帕克元素

• 去除细微的反应产物（微粉体）

• 该元素的密度较低，因此网格间的间隙较大

• 粉体会在元素的表面及内部逐渐堆积起来

涡流元素

• 由于存在涡流结构，粉体不会长时间受到压力作用
  

• 通过调整涡流的数量和间距，几乎可以完全阻止粉体进入

• 粉体会在所安装的涡流元素表面逐渐堆积起来