仪器简介：

美国光学膜厚仪，广泛应用于各种薄膜、涂层光学常数(n and k)和厚度的精确测量，设备分为在线和离线两种工作模式，操作便捷，几秒钟内即可完成测量和数据分析，USB 连接计算机控制；

薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

应用：

半导体（光刻胶、氧化物和氮化物等），

液晶显示器（ITO， Polyimide， Cell gap），

法医鉴定、生物薄膜和材料；

墨水、矿物、染料、化妆品；

硬质涂层、减反射涂层、滤波涂层；

医药、医疗器件；

光学薄膜、TiO2， SiO2， Ta2O5；

半导体化合物；

功能薄膜（MEMS/MOEMS）；

非晶硅、纳米晶硅、晶体硅；

技术参数：

测量范围：20 nm to 50 μm (Thickness only)，

100 nm to 10 μm (Thickness with n and k) ；

多层测量：Up to 4 layers；

光点大小调节范围：0.8 mm to 1 cm ；

薄膜厚度测量精度：±0.5%；

厚度测重复性：0.1nm；

样品台尺寸：200 mm × 200 mm；

主要特点：

*基片折射率和消光系数测量；

*薄膜厚度测量，平均值和标准偏差分析；

*薄膜折射率和消光系数测量；

*适用于不用材质和厚度的薄膜、涂层和基片；

*测试数据输出和加载；

*直接Patterned或特征机构的试样测试；

*可用于实时在线薄膜厚度、折射率监测；

*波长范围可选；

*系统配备强大的光学常数库和材料数据库，便于测试和数据分析；