粉体行业在线展览
HTX
面议
HTX
1235
一,产品设计原理:
在真空腔内,利用一个加热板升华底部的基质,然后利用一个冷却板将基质沉积到样品表面。所有这个过程发生在基质的三相点以下,因此没有涉及液态物质,从而减少了移位效应。
二,产品技术优势:
可以设定时间控制升华步骤;大部分基质都可以在180s内完成升华过程;适用于DHB, CHCA, SA, DAN, AA, Norhamane等基质;分辨率:升华能够保证纳米级的*小结晶尺寸;*小的移位效应:基质喷涂过程中,跳过液态直接升华为气态,样品的更多空间信息被完整保留;高效:一次处理即可完成基质沉积。
三,产品梗概:
快速、简单、重复性好、移位效应小