粉体行业在线展览
面议
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C11295 多点纳米膜厚测量仪
特性
多达15点同时测量
无参照物工作
通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量
提醒及警报功能(通过或失败)
反射(透射)和光谱测量
高速、高准确度
实时测量
不整平薄膜精确测量
分析光学常数(n,k)
可外部控制
参数
型号 | C11295-XX*1 |
可测膜厚范围(玻璃) | 20 nm to 100 μm*2 |
测量可重复性(玻璃) | 0.02 nm*3 *4 |
测量准确度(玻璃) | ±0.4 %*4 *5 |
光源 | 氙灯 |
测量波长 | 320 nm to 1000 nm |
光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*4 |
工作距离 | 10 mm*4 |
可测层数 | *多10层 |
分析 | FFT 分析,拟合分析 |
测量时间 | 19 ms/点*7 |
光纤接口形状 | SMA |
测量点数 | 2~15 |
外部控制功能 | Ethernet |
接口 | USB 2.0(主单元与电脑接口) RS-232C(光源与电脑接口) |
电源 | AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
功耗 | 约330W(2通道)~450W(15通道) |
*1:-XX,表示测点数
*2:以 SiO2折射率1.5来转换
*3:测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差
*4:取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*5:可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中
*6:卤素灯型为C11295-XXH
*7:连续数据采集时间不包括分析时间