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真空热压炉OTF-1200X-VHP4

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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品介绍

真空热压炉OTF-1200X-VHP4是在真空高压下制备致密化合物材料的理想工具,在5T压力下可键合多层基片。本机可以加热到1100℃,并设有30段控温程序。

控温仪表操作视频

产品型号

真空热压炉OTF-1200X-VHP4

主要特点

1、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和洁净度,同时延长使用寿命。

2、石英管两端设有带水冷的法兰。

3、在石英管内真空环境下,通过底部可调整弯管移动液压柱,将压力传输到模具。

技术参数

1、输入电源:AC220V 50Hz/60Hz 6KW

2、输出功率:2.2KW

3、石英管:外径?100mm,内径?95mm,长1200mm

4、加热区域:300mm

5、**工作温度:1100

6、控温精度:±1

7、电动压力泵**负载:20T

8、气缸:?25mm

9、可移动行程:15mm

10、**压力:6T(压力表显示10MPa

12、真空度:10-2torr(机械泵),10-5torr(分子泵)

产品规格

尺寸:1050mm×750mm×1750mm;重量:365kg

可选配件

1真空泵

2冷水机

3、耐高温压力模具

产品咨询

真空热压炉OTF-1200X-VHP4

沈阳科晶自动化设备有限公司

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