产品型号

GSL-PECVD-300化学气相沉积

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）

2、电：AC380V 50Hz，必须有良好接地

3、气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备实验所需气体气瓶（自带?10mm双卡套接头）及减压阀

4、场地：设备尺寸2200×2000mm×1500mm，承重1000kg以上

5、通风装置：需要

主要特点

1、所需成膜温度低

2、沉积速率快，应用广泛

3、体积小，操作简便

4、采用射频为增强源易于控制

5、清理安装便捷。

6、一体化触摸屏控制

技术参数

1、系统采用单室筒式结构，手动前开门；

2、真空室组件及配备零部件全部采用优质不锈钢材料制造（304），氩弧焊接，表面采用喷玻璃丸+电化学抛光钝化处理配有可视观察窗口，并带挡板，真空有效尺寸为Φ300mm×300mm；

3、极限真空度：≤6.67x10-4Pa (经烘烤除气后，采用600L/S分子泵抽气，前级采用4L/S)；

系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S； 系统从大气开始抽气到5.0x10-3 Pa，40分钟可达到； 停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa；

4、采用样品在下，喷淋头在上的电容式耦合方式进气；

5、样品加热**加热温度：500℃，温控精度：±1°C，采用控温表进行控温；

6、喷淋头尺寸：Φ90mm，喷淋头与样品之间电极间距40-100mm在线连续可调（可根据工艺调整），并带有标尺指数显示；

7、 沉积工作真空：0.133-133Pa（可根据工艺调整）；

8、射频电源：频率 13.56MHz，**功率500W，全自动匹配；

9、.气体种类（用户提供），使用质量流量控制器控制进气。

10、系统设有尾气处理系统(用户自备)。

产品规格

整机尺寸：1200x1500x1500mm；

标准配件

1

电源控制系统

1套

2

真空机组

1套

3

真空测量

1套