粉体行业在线展览
全系列(标准款 / 两用款)
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全系列(标准款 / 两用款)
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专利直流等离子体 CVD 法,负辉光相区域镀膜,形成无颗粒非晶质锇薄膜
常温制膜无热损伤,完美保护热敏样品,避免传统金蒸镀的裂纹问题
优异绕射性,蒸气气化成膜,彻底覆盖凹凸结构,无充电、无阴影
自动化操作,高重现性,支持多型号与定制化配件,适配全场景需求
Filgen 锇等离子体镀膜机(Os Plasma Coater),采用**直流辉光放电等离子体 CVD 法,专为扫描电子显微镜(SEM)样品导电薄膜制备设计,彻底解决传统溅射、金蒸镀的颗粒性、热损伤、绕射差等行业痛点。
设备在真空腔室内引入四氧化锇(OsO₄)气体 / 萘烷气体,通过辉光放电形成等离子体,在负辉光相区域内于试样表面瞬间附着堆积,形成非晶质(无定形)锇薄膜,无颗粒性、无热损伤、绕射效果优异,可获得**清晰的 SEM 观测图像。
产品系列涵盖铱薄膜专用型、锇 / 萘等离子体重叠膜两用型,支持超薄膜镀膜、亲水处理、深样品机构等可选配件,适配各类复杂应用场景;新增触摸面板操作,自动化流程,任何人都可安全、高重现性地完成镀膜作业。
对比传统方法,本设备实现四大核心突破:
无颗粒性:非晶质薄膜,彻底消除溅射涂层的颗粒干扰,还原样品真实形貌
优异绕射性:蒸气气化后成膜,**覆盖凹凸结构、孔洞,无充电、无阴影
无热损伤:常温制膜,无加热步骤,避免金蒸镀对热敏样品的热损伤与裂纹
高安全性与耐用性:锇膜熔点高达 2700℃,坚固耐电子束,适配 FIB 等强应用场景
适用于生物、材料、医药、纳米研究等领域 SEM 样品前处理,是电镜实验室的专业配套设备。