粉体行业在线展览
Exicor® HD 400/600/800/1000/1500/2000 高清系列
1万元以下
Exicor® HD 400/600/800/1000/1500/2000 高清系列
174
0.005~300 + 纳米双折射,0.001nm/±0.015nm 超高精度,<50μm 光斑
✅ 全钢重型底座,适配 400~2000mm 超大样品,承重最高 5400kg
✅ 亚纳米级精度,0.001nm/±0.015nm 双折射,0.01° 角分辨率
✅ 0.005~300 + 纳米宽范围测量,<50μm 光斑,全域精准覆盖
✅ 自动化扫描 + 数字化分析,研磨 / 损伤 / 双折射全参数量化
✅ 多光源 / 多调制技术,定制化适配不同样品需求
✅ 全尺寸型号覆盖,从实验室到产线全场景适配
Hinds Instruments Exicor® HD 系列双折射测量系统,是美国 Hinds Instruments 专为重型、大尺寸样品打造的高精度双折射评估平台,核心基于 Exicor 低阶双折射测量技术与自动化运动控制,**解决半导体晶圆、光掩膜等超大样品的双折射检测难题。
系统采用全钢底座设计,大幅提升测量效率与稳定性,支持从 400mm 到 2000mm 全尺寸**样本量,可承载** 5400kg 的重型样品,完全适配工业级大尺寸器件的批量检测。搭载 PEMLabs™光弹性调制器,支持 632.8nm 等定制光源,测量速率** 100 pps;测量斑点直径可低至 < 50μm,减速范围覆盖 0.005 到 300 + 纳米,延迟分辨率达 0.001 纳米 /±0.015 纳米,角分辨率 0.01°,实现亚纳米级超高精度测量。
系统配备直观的自动化扫描软件,支持正面和头顶双加载选项,可一键量化研磨量、损伤值与双折射分布,结合可选高分辨率探测器模块,实现原生小于 1mm 的精细测量。广泛应用于半导体晶圆、光掩膜、光学镀膜、玻璃基板、大尺寸光学元件等行业的双折射、应力分布深度评估,是高端光学制造领域的核心精密测量设备。