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PVD镀膜设备
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中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
辽宁
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沈阳科学仪器
PVD镀膜设备
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物理气相沉积（Physical Vapor Deposition），指将材料源表面气化并通过低压气体/等离子体在基体表面沉积，包括蒸发、溅射、离子束等。
利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的制备设备
高真空钎焊炉设备--QHL550
小型超高真空退火炉
大型高真空退火炉
碳化硅晶体生长炉
导模法蓝宝石晶体生长炉
泡生法蓝宝石晶体生长炉
双侧无油涡旋泵
涡旋干式真空泵
螺杆干式真空泵JLG-1100A
罗茨干式真空泵GH-80A
金属有机源气相沉积系统--MOCVD
高真空硬碳膜制备系统--FHL600
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
合金分析仪
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
NJ-80型
GPZT-JH10/4W
NVT-HG型 单晶生长炉
