粉体行业在线展览
CMD2000
5-10万元
IKN
CMD2000
2834
0-10微米
IKN研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
食品工业、涂料油墨、生物医药、日用化工、农药化肥、石油化工、精细化工
全国各地
高浓度石墨烯浆料制备设备,液相剥离膨胀石墨制备设备,水相剪切剥离制备石墨烯设备,蠕虫石墨制备石墨烯研磨设备,膨胀石墨制备石墨烯设备,德国进口高级安全研磨设备,高转速研磨分散设备
IKN研磨分散机设计独特,能够延长易损件的使用时间,因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用,也可以单独使用,且粉碎粒度范围广,成品粒径可以进行调整。
石墨烯由于其优异的力学、导电、导热等性能,正在吸引越来越多研究团队开展其理论和应用研究。石墨烯价格较高,开发绿色、高品质、大规模、高浓度制备工艺成为当前石墨烯领域的研究热点,也是石墨烯能否实现工业应用,实现传统产品的更新换代的关键之一。
液相剥离膨胀石墨制备石墨烯是实现石墨烯绿色、高品质、规模化制备的方法之一。膨胀石墨为非极性材料,具有优良的吸附性,吸油值比活性炭高(NMP相、)石墨烯浆料过程中,由于膨胀石墨极高的吸附溶剂性能,膨胀石墨、表面活性剂、溶剂混合物很难形成连续悬浊液,尤其是制备高浓度石墨浆料,初始原料混和后表现为砂浆状,导致超声波无法在溶剂介质中传播,更不会进入膨胀石墨层间形成”,从而致使剥离膨胀石墨效率降低或失败。
由于膨胀石墨优良的吸附性,对油性溶剂和表面活性剂水溶液吸附量较大,传统制备高浓度石墨烯浆料是采用浓缩低浓度石墨烯浆料的方法。过滤分离浓缩会增加制备工序,由于石墨烯片径小,要求滤布孔径较小,则能耗较高,还有不可避免的跑冒滴漏,产生大量滤液污水,和清洗滤布污水。蒸发浓缩会增加制备工序,能耗较高,同时大量的蒸发水需配置蒸发水收集系统,增加成本。
具体操作步骤:
1、 石墨烯浆料的制备方法,称量膨胀石墨、分散剂和水,将膨胀石墨、分散剂和全部水进行第1混合液;将第30min-2h,得石墨烯浆料
石墨烯 分散技术三要素
二、分散剂用量推荐
三、石墨烯 分散剂概述
四、超声波分散设备使用建议及分散实例
五、研磨分散设备使用建议
石墨烯 分散技术三要素:分散介质、分散剂和分散设备
上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。
CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力,可以处理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
研磨分散机的特点:
1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)
2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)
4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)
5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)
线速度的计算:
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,研磨分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%