粉体行业在线展览
GMSD2000-379
5-10万元
SGN/思峻
GMSD2000-379
89
1-100μm
采用阶梯式多级研磨腔体结构,逐级缩小研磨间隙,先打散大块团聚再精细微化,无需前置预混设备,一次性将药物固体颗粒研磨分散均匀,有效避免大颗粒堵塞管路,大幅提升混悬液粒径一致性
一、产品概述
GMSD2000 在线式研磨分散机为管线式连续湿法超细处理设备,整机采用 316L 不锈钢材质,腔体镜面抛光,满足医药 GMP 与 CIP 在位清洗规范。设备专门针对药物混悬液研制,可将原料药固体颗粒、团聚结块进行多级研磨打散,在密闭管线内完成粉碎、分散、均质全过程,有效解决混悬液颗粒粗大、沉降过快、粒径不均匀等问题,适配抗生素、口服混悬剂、注射液悬浮物料的连续化生产线。
二、工作原理
设备内置多级串联定转子研磨单元,电机带动转子高速运转,腔体内部形成负压,混悬物料被连续吸入研磨腔。物料先经过粗磨齿进行结块打散,再进入精细研磨间隙,在高速撞击、强力剪切、挤压湍流的多重作用下,固体药物颗粒被逐级破碎至微米级。整个工序密闭连续运行,物料一次性完成研磨与分散,无空气混入,避免药液氧化,可直接接入流水线不间断出料,也可外接管路循环研磨达到更窄粒径分布。

三、核心优势
多级研磨腔体一体化设计,一台设备同时完成解聚、粉碎、分散三道工序,简化整条生产线布局。
卫生级无死角结构,拆装简单,支持在位清洗与高温灭菌,符合制药行业洁净生产要求。
全程密闭管线作业,杜绝粉尘挥发与药液污染,保证药物混悬液批次稳定性。
定转子间隙可调,粒径可控,成品颗粒分布区间窄,显著降低药液储存沉降速度,提升产品保质期。
连续在线大流量生产,运行平稳,可长时间不间断作业,适合规模化制药量产。
四、设备参数
型号 | 标准流量(L/h) | 转速(rpm) | 线速度(m/s) | 马达功率(KW) | 进出口尺寸 |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1500 | 10500 | 41 | 11 | DN50/DN32 |
GMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN100/DN80 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
GMSD2000-67
GMSD2000-410
GMSD2000-54
GMSD2000-142
GMSD2000-325
GMSD2000-326
GMSD2000-258
GMSD2000-243
GMSD2000-257
GMSD2000-259
GMSD2000-260
GMSD2000-256