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SCREEN二手清洗设备WS-820L,针对8英寸晶圆的高通量批量清洗系统可实现灵活的生产线配特点:1.传输类型选择WS-820L用于200毫米晶圆并进行无载体转移处理。2.灵活的设计系统可以根据应用
 
684 山东 给我留言
SUSSMicroTec的半自动湿处理系统AD12为水介质应用提供了卓越的清洁和开发功能。单晶片处理平台可用于工件,晶片尺寸高达300mm,方形基板高达230mmx230mm,用于晶片的带框高达300
 
600 山东 给我留言
200kV相差校正TEM/STEM,平衡了空间分辨率和倾斜、分析性能通过单极片实现0.078nm的STEM空间分辨率和高样品倾斜度、高立体角EDX。透射电子显微镜除了延续了日立公司配备的具有扫描透射电
 
541 山东 给我留言
现有机型SU8240,SU8230,SU8220及SU8010重新整合,衍生而成Regulus8240、Regulus8230、Regulus8220、Regulus8100。"Regulu
 
501 山东 给我留言
鑫北方气力输送泵的泵体,是仓泵的主体结构,为待输送物料提供储存空间。仓泵能够容纳一定量的粉状、颗粒状等物料。泵体的封闭结构防止物料受外界环境的影响,保障物料的质量稳定,可以满足不同输送任务。【仓式气力
 
303 山东省济南市 给我留言
SEMVisionG2的检测组装和处理使微小和浅缺陷的高质量地形图像成为可能。高动态范围检测、背散射电子收集和能量过滤可实现高纵横比成像。基本信息:型号:AMATSEMVisionG2+描述:缺陷审查
 
552 山东 给我留言
Surfscan®SP2和SP2XP系统是KLA革命性的SurfscanSP1平台的第二代产品,用于无图案晶圆检测。SurfscanSP2采用了开创性的紫外线(UV)激光技术、新的暗场光学技术和先进的
 
630 山东 给我留言
TOPCON拓普康芯片外观检测设备Vi4202可以全自动检查在晶片上图案化的芯片和在扩展前切割的晶片(表面朝上/背面朝上)中的微小异物和缺陷,并以芯片为单位确定合格与否。环境条件:温度范围:20~27
 
558 山东 给我留言
PVATEPLA/TECHNICSGIGA690二手现货刻蚀机PVATEPLA/TECHNICSGIGA690二手现货刻蚀机PVATEPLA/TECHNICSGIGA690二手现货刻蚀机PVATEPL
 
493 山东 给我留言
PVATEPLA/TECHNICSGIGABATCH360M刻蚀机,2013年设备,等离子刻蚀系统。
 
458 山东 给我留言
ASMLHoldingNV(ASML)于2006年末推出了其最新的TWINSCAN系统,这是一种先进的193纳米(nm)曝光系统,具有成像、覆盖和吞吐量改进的特点。TWINSCANXT:1450的目标
 
431 山东 给我留言
TWINSCANXT:1900GiStep-and-Scan系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,专为45纳米及以下分辨率的300毫米晶圆批量生产而设计。XT:1900Gi采用蔡司星石1900i浸没
 
480 山东 给我留言
TWINSCANXT:400G365nm步进扫描系统是一种超高生产率的双级光刻工具,专为350nm分辨率的300mm晶圆批量生产而设计。TWINSCAN平台的双晶圆级技术使一个晶圆的曝光和下一个晶圆的
 
462 山东 给我留言
TWINSCANXT:450G365-nm步进式扫描系统是一种高生产率的双级光刻工具,设计用于批量生产分辨率低至220-nm及以上的关键i-line应用。TWINSCAN平台的双晶圆台技术使一个晶圆的
 
466 山东 给我留言
尼康的这款i-line光刻机NSR2205i12D是最受欢迎的光刻系统之一。分辨率≦350nm,曝光光源i-line(365nm波长),缩小比1:5,曝光场22mm*22mm至17.9(H)*25.2
 
513 山东 给我留言
佳能canon二手i-line光刻机FPA-5500IZ+,350nm,可对12英寸晶圆进行光刻工艺加工。
 
515 山东 给我留言
羧甲基纤维素钠,(又称:羧甲基纤维素钠盐,羧甲基纤维素,CMC,Carboxymethyl,CelluloseSodium,SodiumsaltofCaboxyMethylCellulose)是当今世
 
268 中国 给我留言
ASML二手ARF光刻机AT1150,193nm,拆卸以及包装已经完成,随时可以发货。
 
417 山东 给我留言
佳能二手i-line光刻机CANONFPA3000I4参数:Magnification5XResolution0.35umWaferSize8"SEMI(OF)WaferLoaderTYPE
 
558 山东 给我留言
该款产品,基于热丝CVD法(HotFilamentChemicalVaporDeposition,简称HoFCVD)镀膜,适用于高校、科研机构使用,或企业研发部门进行原理性验证和技术开发。热丝CVD法
 
370 江西 给我留言