粉体行业在线展览
UM-05
面议
儒佳科技
UM-05
5
100-300nm
UM-05 是一款专为二氧化硅(硅微粉、石英粉、纳米二氧化硅) 等硬度高、磨蚀性强的物料设计的纳米级砂磨机。设备针对 0.1mm 以下微小研磨介质进行专项优化,采用高耐磨陶瓷或合金钢研磨腔体,配合强力冷却系统与高效离心分离装置,可实现对二氧化硅团聚体的高效解聚与超细研磨,满足电子材料、高端涂料、CMP抛光液等领域对高纯度、超细粒径的严格要求。
二氧化硅砂磨机 UM-05

产品概述
UM-05 是一款专为二氧化硅(硅微粉、石英粉、纳米二氧化硅) 等硬度高、磨蚀性强的物料设计的纳米级砂磨机。设备针对 0.1mm 以下微小研磨介质进行专项优化,采用高耐磨陶瓷或合金钢研磨腔体,配合强力冷却系统与高效离心分离装置,可实现对二氧化硅团聚体的高效解聚与超细研磨,满足电子材料、高端涂料、CMP抛光液等领域对高纯度、超细粒径的严格要求。
产品特点
适配超细研磨介质(≤0.1mm)
通过优化设计,可使用直径 0.1mm 以下的微小研磨介质,精准控制研磨能量,实现二氧化硅粉体的纳米级分散(D50 ≤ 100nm)。
高耐磨材质腔体,多材料可选
研磨腔体全部采用高耐磨材料(如氧化锆陶瓷、碳化硅或特种合金钢),针对不同纯度要求可选配接触材质,**限度降低金属污染,保证产品品质。
强力冷却设计,热稳定优异
配备高效强制冷却系统,及时带走高能量密度研磨产生的热量,避免二氧化硅因高温团聚或影响表面活性。
大流量离心分离,出料顺畅
采用大流量离心分离筛网或无筛网结构,出料面积大、不易堵塞,适应高固含量、高粘度浆料的连续生产。
柔性分散至高能研磨全覆盖
可灵活调节工艺参数,从低能分散(保护颗粒形貌)至高能研磨(强力解聚)均可适用,一机多用。
应用领域
二氧化硅微粉、纳米二氧化硅(气相法、沉淀法)
CMP 抛光液(芯片抛光用二氧化硅研磨液)
电子封装材料、硅橡胶填料
高端涂料、油墨、胶粘剂
陶瓷浆料、玻璃抛光材料
锂电池隔膜涂层材料
Ultra Apex Mill
ESW-1.0
NMM-1L
SGM0.6L
KNB-SX系列
PHE SuperMaxFlow®+H
XL-0.3L
WS/WX系列
略
WSP-SS30
NT-V