粉体行业在线展览
Si-G
1万元以下
Si-G
2389
CVD工艺制备的石墨烯薄膜,单层率高,尺寸大
半导体行业,氮化镓的生长
微系统所,中兴
硅基底CVD石墨烯膜
联系电话:13685******,刘先生
硅片厚度:700微米
硅片表面氧化硅厚度:300nm
石墨烯层数:1层,2层,多层(可选)
石墨烯方阻:300-500(单层石墨烯)
石墨烯单层覆盖率:>95%
样品照片:
光学显微镜照片:
Raman光谱
参数价格:
量大可打折
存储条件:
建议产品在常温下保存在干燥,低氧(无氧)的容器中,建议一个月内使用完.