粉体行业在线展览
PWA平板状氧化铝微粉3/5/9#
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裕智汇科
PWA平板状氧化铝微粉3/5/9#
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PWA微粉电镜照片
对于其他的研磨材料,平板状氧化铝抛光研磨微粉有以下特点:此产品主要成分为工业氧化铝,纯度达到99%以上,具有化学性,优异的耐热性,耐酸碱腐蚀性。
晶体形状为六角平板状,区别于传统磨料的等体积或者球形,此形状使得磨料颗粒在研磨过程中平行于被加工工件(如半导体硅片等)表面,产生滑动的研效果,而非传统的料滚动研磨,因而不容易对工件表面产生划伤,同时因为研磨压力是均匀分布在平板颗粒表面,颗粒破碎减少,耐磨性大幅度提高,因而能提供**的磨削效率,因此可减少片机的数量人工和磨削时间,如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍;对于被磨对象来说不易划伤,合格品率可提高10%至15%,如半导体硅片,其合格品率一般能达到99%以上。而现在的产品市场主要由日美产品占据,但是我公司产品性价比远远高于国外同类产品,大大提高了工厂的工作效率,降低了成本。
由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%。