粉体行业在线展览
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VCVD
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湖南顶立科技股份有限公司
湖南
100-150万元
顶立科技
VCVD
4442
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立式化学气相沉积炉（SiC、BN）
产品描述：
立式化学气相沉积炉（SiC、BN）可用于材料的表面涂层、基体改性、复合材料制备等
应用范围：
外延片基座、晶体炉高温耐材、热弯模具、半导体坩埚、陶瓷基复合材料等
采用先进的控制技术，能精密控制MTS的流量和压力，炉膛内沉积气流稳定，压力波动范围小；
全密闭沉积室，密封效果好，抗污染能力强；
多通道工艺气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好；
多级高效尾气处理系统，能有效处理高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物，环境友好；
可选配新设计的防腐蚀真空机组，持续工作时间长，维修率极低；
使用工艺气氛：真空/CH4/H2/N2/Ar/BCI3/NH3/MTS。
| 参数\型号 | VCVD-0305-SIC | VCVD-0608-SIC | VCVD-0812-SIC | VCVD-1120-SIC | VCVD-1520-SIC |
| 工作区尺寸D×H（mm） | 300×500 | 600×800 | 800×1200 | 1100×2000 | 1500×2000 |
| **温度（℃） | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
| 温度均匀性（℃） | ±5 | ±7.5 | ±7.5 | ±10 | ±10 |
| 极限真空度（Pa） | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
| 压升率（Pa/h） | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
| 加热方式 | 电阻 | 电阻 | 电阻 | 电阻 | 电阻 |
以上参数可根据工艺要求进行调整，不作为验收依据，具体以技术方案和协议为准。
结构形式：卧式-单开门/双开门；立式-上出料/下出料
炉门锁紧方式：手动/自动
炉壳材质：内层不锈钢/全不锈钢
保温材质：碳毡/石墨毡/碳纤维固化毡/陶瓷纤维毡
加热器、马弗材质：石墨/CFC/金属
热电偶：K/N/C/S分度号
真空泵：机械泵组/耐腐蚀泵组
