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卧式氧化炉
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中国电子科技集团公司第四十八研究所
湖南
面议
电子科技
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应用于集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金和烧结等;适用工艺有扩散、氧化、退火、合金。
设备成熟稳定,可靠性高;
恒温区自动调整,串级控制,可准确控制反应管的实际工艺温度。
晶片尺寸:2*—6*;
工艺温度:400℃—1300℃;
恒温区长度:800mm — 1000mm。
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