nanoArch S130微纳3D打印机由深圳市摩方材料科技有限公司自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统，将需打印模型分层投影至树脂液面，快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势，被认为是目前**有前景的微尺度加工技术之一。

基本参数

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等

光学精度：2μm

打印层厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（单投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重复阵列模式）

文件格式：STL

设备功率：3000W

系统外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：450kg

电气要求：200-240V AC，50/60HZ，3kW

应用领域：

可广泛应用于力学超材料、生物医疗、微机械结构、微流控、三维复杂仿生结构等领域

企业简介：

摩方材料是一家专注于高精密微纳3D打印系统及材料的高新技术企业，其业务涵盖高精密3D打印设备的研发及生产、高精密3D打印定制化产品服务、高精密3D打印原材料的研发及生产、高精密3D打印工艺设计开发及相关技术服务，拥有较为完整的高精密微纳3D打印产业生态链。

作为微纳3D打印的先行者和***，在三维复杂结构微加工领域，摩方团队拥有超过二十年的科研及工程实践经验。