粉体行业在线展览
面议
1073
仪器简介:
英国Quorum出品的CryoSEM扫描电镜冷冻台、离子溅射镀膜仪、蒸发镀碳仪、热蒸发镀膜仪、临界点干燥仪、冷冻干燥仪、等离子清洁刻蚀灰化仪等系列产品,作为世界**电镜制样设备,在电子显微镜(扫描电镜/透射电镜)的样品制备领域中应用非常广泛。
产品主要分类及型号如下:
Sputter Coating Systems
磁控离子溅射镀膜仪(可镀金、铂、铱、铬、铝...用于钨灯丝电镜、场发射电镜、扫描探针以及材料科研等领域)
型号及简述:
SC7620紧凑型离子溅射镀膜仪(喷金仪):普通机械泵抽真空,模拟控制,具有Glow discharge辉光放电处理功能。可选喷碳附件实现喷金/喷碳两个用途 ;
Q150R S离子溅射镀膜仪:机械泵抽真空系统,CPU程序全自动控制,触膜屏用户界面,可镀多种贵金属膜材,也可镀相对较厚的膜;可选配辉光放电处理单元
Q150T S高分辨率离子溅射镀膜仪:蜗轮泵高真空系统,CPU程序全自动控制,触膜屏用户界面,设有自动挡板和靶材预清洁程序,不但可镀多种贵金属膜材,也可镀多种易氧化金属膜材;可镀相对较厚的膜;可选配辉光放电处理单元
Q300QQQ300R T大腔室、多功能离子溅射镀膜仪:三靶大面积溅射系统之旋转机械泵版本,CPU程序全自动控制,触膜屏用户界面,适合不氧化的贵金属如金(Au)、铂(Pt)等靶材大面积镀膜
Q300T T大腔室、多功能、高真空离子溅射镀膜仪:三靶大面积溅射系统之高分辨涡轮泵版本,CPU程序全自动控制,触膜屏用户界面,标配有自动挡板和靶材预清洁程序,既适合贵金属、也适合易氧化金属等靶材大面积镀膜
Q300T D大腔室、多功能、高真空双头离子溅射镀膜仪:涡轮泵高真空系统,CPU程序自动控制,触膜屏用户界面,大腔室,双溅射镀膜头,可自动顺序溅射两层不同的成膜材料;标配有自动挡板和靶材预清洁程序,既适合贵金属、也适合易氧化金属等靶材单层镀膜、双层或多层依次镀膜。
Carbon Coating and Evaporation Systems
镀碳仪和蒸镀仪(蒸镀碳及金属)
型号及简述:
K975X/K975XS多用途高真空蒸发镀膜仪:涡轮泵抽真空系统,CPU程序自动控制,LCD显示屏,既可热蒸发镀碳,也可用热蒸发方式蒸镀多种金属等膜材;可选配离子溅射模块、低角度阴影组件、双源蒸发模块等多种功能模块
Q150R E碳蒸镀仪:机械泵抽真空系统,CPU程序自动控制,触膜屏用户界面,标配碳丝/碳绳头,可蒸镀碳导电膜
Q150T E高真空热蒸发镀膜仪:涡轮泵抽真空系统,CPU程序自动控制,触膜屏用户界面;标配碳棒头,可蒸镀碳;可选蒸镀金属等多种膜材(向上蒸镀、向下蒸镀两种方式),亦可使用钼舟实现对电镜光阑的清洁处理(烧光阑)
Coater with both Sputtering and Evaporation Systems
离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪
型号及简述:
Q150R ES离子溅射/碳蒸发一体化镀膜仪:机械泵抽真空系统,CPU程序自动控制,触膜屏用户界面,集成了离子溅射和碳蒸镀两种沉积功能的镀膜仪(兼具喷金仪/喷碳仪两台仪器的功能);具有智能逻辑自动识别系统
Q150T ES高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪:蜗轮泵抽真空系统,CPU程序自动控制,触膜屏用户界面,集成了高分辨离子溅射和热蒸镀两种沉积功能的镀膜仪(兼具高分辨溅射仪/高真空蒸镀仪两台仪器的功能);具有智能逻辑自动识别系统
Freeze Driers(Peltier/LN2 Cooled )
冷冻干燥仪(Peltier电制冷/液氮制冷)
型号:K750X,K775X...
Critical Point Driers(CPD)
临界点干燥仪
型号:垂直腔室:K850,K850WM;水平腔室:E3000/E3100
RF Plasma (Ashing/Etching) Units
射频等离子刻蚀单元(清洁、灰化)
型号:K1050X,K1050XT
Cryogenic Systems for Electron Microscopes (CryoSEM)
扫描电镜冷冻制备传输系统(扫描电镜冷冻台),可将普通SEM或场发射SEM改造成能直接观察含水样品(无需脱水干燥)的低温冷冻扫描电镜!
型号:K1250X,PP2000,PP2000T,PP3000T
ESEM / VP Cooling Stage
环扫/可变真空 扫描电镜冷台(扫描电镜小冷台)
型号:K25X
技术参数:详细技术参数见各型号的样本资料,或访问:查看详细参数。也可来电咨询: