粉体行业在线展览
面议
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技术参数:
ARL Quant’X 荧光能谱仪
应对RoHS指令 ――快速分析
超大Si(Li) 晶体,具有极高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒
全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高级FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm*(乘号)400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
主要特点:
ARL Quant’X 荧光能谱仪
具有广泛的应用如:ROHS-WEEE电子废弃物中重元素分析,各种合金及贵金属成分分析,环境污染气溶胶的测度, 考古文物保护,刑侦痕量分析,营养品分析,磁性介质和半导体的薄膜渡层厚度分析,各种油品中成分分析,纳米至微米镀层厚度测量,土壤,催化剂,矿石,原材料等.
用于材料的无损分析可选择液氮致冷或电致冷Si(Li) 探测器 从氟至铀的多元素分析测定的浓度范围一般可以从ppm级至100% 技术参数
Revontium
N80
ScopeX PILOT
VANTA
逸出功能谱仪
ARL X'TRA Companion X射线衍射仪
EDX6000C
WEPER XRF2800
Niton XL2 980Plus
BA-100 G系列
NAOMi-CT 3D-M