一、结构介绍

该真空箱式炉系列用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30 段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。炉体采超轻质高铝纤维材料，具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点，设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或其他真空机组，非常适合于试验和小批量生产之用。

该设备为密封式加热腔体,确保设备可在真空条件下,或者一些特殊气氛条件下使用，相比普通箱式炉，使用环境更灵活，使用范围更广泛。

二、技术参数