制样/消解设备-【SuPro】ISC150 T高真空离子溅射仪-深圳市速普仪器有限公司-产品详情

【SuPro】ISC150 T高真空离子溅射仪

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产品介绍

ISC150离子溅射仪升级版本，采用无油隔膜泵+分子泵获得高真空环境，保证样品喷金处理过程不会产生二次污染。特别适用于追求高分辨率FE-SEM样品的喷金喷铂，EDS和EBSD喷碳，光电薄膜制备，电极材料制备及其他金属镀膜用途。

本离子溅射仪主要的特点就是“无油，高真空”，制备薄膜纯度更高，薄膜质量更优；并且能够在超净间内使用。

另外附加原位等离子清洗选配模块，针对SEM样品清除碳氢污染（有机物积碳污染），实现样品表面活化和亲水化处理。

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