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美国SVT脉冲激光沉积设备/PLD

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产品介绍

SVTSMARTScientific Materials and Applied Research Tool)脉冲激光沉积系统具有****的优越性。它可以把激光烧蚀技术和我们所拥有的其他沉积技术(如RF源)集成于一台设备上。可以生长各种可能的材料。

配有6个旋转靶台,实现多层薄膜结构生长。

可与准分子激光和Yag激光相连。

在线监控仪器做为可选件,为客户提供高质量的工艺信息反馈。

装载室不但可以装取样品,还可以与其他生长设备或分析设备相连。

应用

多元素复合氧化物

高温超导材料

磁性材料、金属材料

低蒸汽压材料

MEMS

基本系统

腔室及真空泵

12’’ 快速门,250l/s 分子泵,全量程规

沉积源

靶台,6X1’’(25mm) 靶,可以水平旋转,

Z方向移动

样品台

1’’(25mm)大小,可加热至800oC1000oC可选),可水平旋转,可Z方向移动

在线工艺监控

石英晶振沉积速率监控仪

自动化

自动化装置:

控制样品温度和旋转

靶台的位置控制

靶台旋转

气体控制

速率及厚度计算(利用QCM输出)

激光束扫描(可选)

激光束屏蔽控制

自动泵抽和充气

差分泵抽结构

RHEED分析(可选)

装载室压强监控(可选)

主要特点

RF射频等离子源(氧,氮)

升级高真空

增加进样室

升级为Laser-MBE (L-MBE)系统

自动软件控制

提供更洁净的薄膜生长环境,**的温度控制解决方案.

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