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拉普拉斯低压水平硼扩散设备 LRB430
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拉普拉斯低压水平硼扩散设备 LRB430
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设备的应用及特点：
应用
本设备适合156-210mm硅片生产，无传统技术的搭片问题及其带来的方阻均匀性问题，更高的方阻均匀性为客户带来更窄的效率分布和更高的电性能良率。更高的方阻均匀性为下一代高方阻工艺提供了可能，能帮助客户进一步提升产品效率和竞争力。本设备采用气态硼源，具有耗源量低和维护要求低的特点，运营成本为传统技术的1/3。本设备具有行业内**产能，能帮助客户降低固定资产投入和运营成本。
热场
石英件
BHO200型超高温氧化炉
超高温退火炉
Bhadra™真空成型LVA400
Bhadra™立式
拉普拉斯电池间隙贴膜机
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X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
SHM1000
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NVT-HG型 单晶生长炉
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大/小过渡舱
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船用水炮系列
