粉体行业在线展览
粉体行业在线展览
高真空硬碳膜制备系统--FHL600
直接联系
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
辽宁
面议
沈阳科学仪器
高真空硬碳膜制备系统--FHL600
595
真空室结构:
圆筒形上升盖
真空室尺寸:
φ600×500mm
极限真空度:
≤6.0E-4Pa
沉积源:
样品尺寸，温度:
φ240mm，1片，水冷却
占地面积（长x宽x高）:
约3米×1.1米x2米
电控描述:
全自动
工艺:
提供标准镀膜工艺
特色参数 :
1路工作气路，2路备用气路
产品概述：
本系统为单室立式结构的高真空镀镀膜设备，可用于开发单层膜-类金刚石膜等。系统主要由镀膜室、靶电极、射频电源、样品转台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统、加热控温系统、水冷却系统等组成。
设备用途：
可用于开发类金刚石膜等
高真空钎焊炉设备--QHL550
小型超高真空退火炉
大型高真空退火炉
碳化硅晶体生长炉
导模法蓝宝石晶体生长炉
泡生法蓝宝石晶体生长炉
双侧无油涡旋泵
涡旋干式真空泵
螺杆干式真空泵JLG-1100A
罗茨干式真空泵GH-80A
金属有机源气相沉积系统--MOCVD
高真空硬碳膜制备系统--FHL600
TEM 热、电、气、液、冷冻样品杆
合金分析仪
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER® 三位全自动熔片仪
NVT-HG型 单晶生长炉
