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氧化锆抛光液MYH-ZPS15一、氧化锆抛光液简介氧化锆抛光液（也称氧化锆精密抛光液）是精密加工领域的关键耗材，核心作用是通过精细抛光，去除工件表面瑕疵、提升表面光洁度，确保工件达到后续加工或使用的理
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1528 | 江苏 | 给我留言 |
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一、氧化硅抛光液产品介绍达西浓自主生产的氧化硅抛光液主要由高纯度胶态氧化硅微粒或高纯度硅粉制成，具有高纯度和低金属离子的特性，可以有效避免加工元件产生刮伤。其分散性好，去除率高，表面效果好，对工件无损
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2787 | 江苏 | 给我留言 |
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一、氧化铝抛光液产品介绍达西浓自主生产的氧化铝抛光液是一种用于抛光的液体，主要成分是氧化铝，能够与金属表面发生化学反应，以使表面光滑，精细，从而得到更好的光洁度和微观凹凸度的平滑化。氧化铝抛光液被广泛
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1382 | 江苏 | 给我留言 |
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一、氧化铈抛光液CE30S产品介绍达西浓自主生产的氧化铈抛光液CE30S是一种用于抛光的液体，主要成分是氧化铈，它在传统的氧化铈抛光液基础上添加了镨元素，从而赋予了其一些独特的性能和应用优势。氧化铈抛
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1481 | 江苏 | 给我留言 |
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一、氧化铈抛光液产品介绍达西浓自主生产的氧化铈抛光液是一种用于抛光的液体，主要成分是氧化铈，它在传统的氧化铈抛光液基础上添加了镨元素，从而赋予了其一些独特的性能和应用优势。氧化铈抛光液被广泛应用于光学
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1656 | 江苏 | 给我留言 |
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适用范围：1、适用于镜头、棱镜、滤光片等高精度光学元件抛光。2、硅晶圆、光纤、化合物半导体（如砷化镓、磷化铟）的精密抛光。产品特点：1、顆粒分散均匀，不团聚，悬浮性好2、颗粒分布适中，抛光精度高3、抛
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3261 | 中国 | 给我留言 |
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适用范围：1、适用于半导体、不锈钢的精密抛光。2、适用于飞行器钛合金部件的精密抛光。产品特点：1、顆粒分散均匀，不团聚，悬浮性好2、颗粒分布适中，抛光精度高3、高效磨削与低损伤4、多材料兼容性技术指标
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2795 | 中国 | 给我留言 |
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单斜型纳米氧化锆水性分散液具有多种应用，主要包括以下几点:一、高温稳定性和耐腐蚀性:纳米氧化锆因其高硬度和耐高温性能，被广泛应用于需要耐高温和耐腐蚀的工业领域。例如，在涂料中加入纳米氧化锆可以提高产品
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1157 | 江苏 | 给我留言 |
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二氧化硅抛光液介绍:二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉末为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。抛光液磨料分散性好，具有强度高、附着力高、成膜性好、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CMP抛光
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1381 | 江苏 | 给我留言 |
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一、产品介绍:氧化铈抛光液的主要成分是氧化铈(Ce02)，产品固含量达到30%,含错，是一种具有高硬度稳定性高和优良抛光性能的抛光液。二、应用领域:1、玻璃去油膜:氧化铈抛光液去油膜效果显著，能够迅速
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1370 | 江苏 | 给我留言 |
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一、产品特点:分散性佳:氧化铈微粒均匀分散，避免团聚，可提高抛光效率。粒度精细均匀:能深入材料表面微观孔隙和不平整处，实现高精度抛光。硬度适中:有效去除杂质和微观缺陷，同时不会划伤被抛光面。稳定性高:
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1230 | 江苏 | 给我留言 |
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一、产品介绍:氧化铈抛光液的主要成分是氧化铈(Ce02)，这是一种具有高硬度、稳定性高和优良抛光性能的抛光液。除了氧化铈外，抛光液中通常还含有一些添加剂，如分散剂、稳定剂和pH调节剂等，以改善抛光液的
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2107 | 江苏 | 给我留言 |
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氧化铝抛光液DXN-AL30氧化铝分散液DXN-AL30稳定、均匀的液体。氧化铝的高硬度和耐磨性，氧化铝研磨液DXN-AL30切削力好，用于半导体精细加工和表面处理。氧化铝抛光液DXN-AL30参数外
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2272 | 江苏 | 给我留言 |
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光纤二合一研磨液MYH-2in1G铭衍海微电子光纤二合一研磨液是一种专为光纤连接器（MT/MPO多芯连接器）端面抛光设计的新型研磨液。它将传统研磨工艺中的*后两道工序——拉纤与精抛合二为一，实现了工艺
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1062 | 江苏 | 给我留言 |
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氧化铝抛光液MYH-APS05一、产品简介：铭衍海（常州）微电子氧化铝抛光液MYH-APS05是一款专为半导体、光学及精密金属等高端制造场景研发的酸性氧化铝抛光液，以高纯度α-氧化铝为磨料，采用分散技
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815 | 江苏 | 给我留言 |
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氧化铝抛光液MYH-APS80一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS80是高端精密制造核心耗材，通过“物理研磨+化学辅助”，去除工件表面损伤层与毛刺，获得超光滑无缺陷表面，保障工件精度与性能。精准抛光
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708 | 江苏 | 给我留言 |
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氧化铝抛光液MYH-APS100一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS100是光通讯、精密光学等领域精密加工中的关键耗材，核心作用是通过精细抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件
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804 | 江苏 | 给我留言 |
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氧化铝抛光液MYH-APS400一、氧化铝抛光液MYH-APS400简介氧化铝抛光液MYH-APS400是光通讯器件、精密光学元件及不锈钢精密部件生产中的核心抛光耗材，通过氧化铝磨料的温和精密研磨，高
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775 | 江苏 | 给我留言 |
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氧化硅抛光液MYH SOP05一、产品简介MYH SOP05是铭衍海（MYHMICRO）研发生产的高纯胶体二氧化硅抛光液，属于超精密终抛型CMP抛光耗材。产品以5nm单分散球形纳米SiO₂为磨料，采用
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637 | 江苏 | 给我留言 |
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氧化硅抛光液MYH-SOP40一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现材料表面纳米级平坦化加
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582 | 江苏 | 给我留言 |