中国粉体网客服中心
参展厂商|厂商动态|展品|技术文章
品牌厂商:
您当前的位置: 网上粉体展>分析仪器设备>专用设备
共有359条产品,分18页,当前第1页 注:可任选两种产品点击“对比产品”按钮进行横向比较!
产品图片
展品信息+公司
关注度
产地
给我留言
DENSsolutions总部位于荷兰,专注于提供先进的原位电子显微镜(In-situTEM)解决方案,致力于开发创新的实验平台和设备,使研究人员能够在电子显微镜下模拟多种实际工作条件,从而实时观察和
 
5201 荷兰 给我留言
SEMPREPSMART离子研磨仪SEMPREPSMART离子研磨仪配备了高能量和可选的低能量氩离子枪。这款设备是用于扫描电子显微镜(SEM)和电子背散射衍射(EBSD)样品的最终加工和清洁的理想选择
 
1976 匈牙利 给我留言
GIB精修离子束系统用于扫描电镜/双束电镜的氩离子束方案TechnoorgLinda的低能氩离子枪(GIB)适用于表面减薄、其他表面处理后的后处理、清洁以及去除无定形和氧化物表面层。当低能氩离子枪集成
 
1813 匈牙利 给我留言
KatanaxX-300X-FLUXER是新一代熔片产品,提供的新功能,可获得****的结果。多样品位熔片机可作为1、2或3位使用,用途广泛,可轻松适应现代实验室的需要。通用、紧凑、安全:你值得拥有高
 
2810 美国 给我留言
设备概述批次生产型高真空蒸发镀膜设备,用于在基板表面沉积各种金属薄膜(Ti\Ni\Ag\Cr\A|等)满足2-12inchWafer生产需求,适合大批量金属沉积工艺或者Liftoff工艺。技术特点双冷
 
719 江苏 给我留言
技术特点大腔体设计,大口径低温泵配置,多种功能可选(热阻,多探头,离子源,双蒸发源等)整机模块化设计,开放式设计。
 
713 江苏 给我留言
批次生产型高真空蒸发镀膜设备,用于在基板表面沉积各种金属薄膜(Ti\Ni\Ag\Cr\AI等)满足2-8inchWafer生产需求,能够最大限度的压缩腔体尺寸,减少抽气时间,提高生产效率。
 
906 江苏 给我留言
YZ-2050EBI光学真空镀膜机真空室内腔尺寸:p2050mm*H1650mm晶控:MXC-3B+六探头真空系统:扩散泵+双极旋片泵+罗茨泵+维持泵+POLYCOLD蒸发源:双枪+固定阻基
 
647 四川 给我留言
晶控:MXC-3B+六探头空载极限真空:8.0x10-5Pa加热温度:最高300%C电源:三相380V50HZ蒸发源:双枪+固走阻基空载恢复真空:2x103pas15min选件:RF离子源/霍尔源设备
 
713 四川 给我留言
YZ1350EBI光学真空镀膜机真空室内腔尺寸:p1350mm*H1500mm真空系统:分子泵+双极旋片泵+罗茨泵
 
1609 四川 给我留言
YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1100EBI光学镀膜设备YZ-1
 
725 四川 给我留言
主要用于:主要用于各类AR膜、AF膜、冷光膜、各种滤光片、高反膜、ITO透明导电膜等各类光学膜电学膜的镀制主要用于:主要用于各类AR膜、AF膜、冷光膜、各种滤光片、高反膜、ITO透明导电膜等各类光学膜
 
753 四川 给我留言
主要用于:主要用于各类AR膜、AF膜、冷光膜、各种滤光片、高反膜、ITO透明导电膜等各类光学膜电学膜的镀制
 
703 四川 给我留言
用途:适用于精密光学元件,高精密光通讯产品镀制光学膜:电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶(树脂)件上镀制增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜。光学镀膜其他方面有
 
694 四川 给我留言
YZ-2070EBI光学变色龙真空镀膜机该设备主要应用于防伪印刷、工业涂料、工业注塑、化妆品、涂层印染领域变色新材料粉体镀制。
 
736 四川 给我留言
YZ-1300IBS离子东溅射镀膜机用途:主要适用于精密薄膜领域(如:激光器、反射镜、滤光片、长/短波通)等精密薄膜的镀制
 
717 四川 给我留言
YZ-700MS磁控溅射镀膜机用途:主要用于各类电学膜、金属膜、Si02膜等的镀制YZ-700MS磁控溅射镀膜机用途:主要用于各类电学膜、金属膜、Si02膜等的镀制YZ-700MS磁控溅射镀膜机用途:
 
734 四川 给我留言
YZ-600MS磁控溅射镀膜机为您介绍成都友臻科技有限公司的YZ-600MS磁控溅射镀膜机。
 
720 四川 给我留言
YZ-900MS磁控溅射镀膜机用途:主要用于各类电学膜、金属膜、Si02膜等的镀制磁控溅射镀膜机的内腔尺寸、靶及电源配置等可根据客户的工艺要求量身定制
 
749 四川 给我留言
主要技术指标:基材厚度:PET:10-125μm;PI:8-75μm有效镀膜幅宽:1300mm6组溅射阴极,其中1组孪生阴极纯金属溅射靶材利用率≥35%;反应溅射靶材利用率≥30%;真空抽率:卷绕室从
 
973 四川 给我留言
关于我们 - 服务专区 - 法律声明 - 诚征合作 - 友情链接 - 广告服务 - 付款方式 - 联系我们