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横向：5μm数据分辨率纵向：5nm数据分辨率支持>15μm横向特征结构、光学精度形貌的3D打印连续生长、连续数字光场飞行曝光3Ｄ打印模式横向：5μm数据分辨率纵向：5nm数据分辨率支持>1
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232 | 江苏 | 给我留言 |
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横向：0.5~1μm数据分辨率纵向分层：2μm数据分辨率支持>5μm横向特征结构、面积1-2英寸的3D打印薄膜送胶分层、连续数字光场打印模式
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202 | 江苏 | 给我留言 |
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针对异质结电池片铜栅线工艺的图形化需求，专门设计了一款投影扫描光刻系统，具有快速光刻、分辨率好、大焦深的特点，采用405nm光纤激光光源，非常适合在光伏专用感光油墨上进行曝光，实现高品质的槽型结构。配
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232 | 江苏 | 给我留言 |
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应用场景针对4、6、8、12寸晶圆、光罩Mask关键尺寸及套刻精度测量。关键特性可同时兼容最大12寸晶圆及Mask的CD量测支持UV、白光照明及光学系统支持透射光（用于Mask）、反射光量测光学系统基
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348 | 江苏 | 给我留言 |
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Tornado3000是维普推出针对8、12英寸亚微级精度的晶圆全自动光学检测设备，基于Tornado2000的成熟架构，通过对光学系统的进一步升级优化，不断提升光学系统成像分辨率，以适应更为苛刻的工
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229 | 江苏 | 给我留言 |
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Tornado2100是维普推出针对晶圆全自动光学关键尺寸及套刻测量设备，基于高分辨率的光学成像系统，进一步提升图形对比度以及减少过渡像素。搭配高性能的运动台，提高测量过程中定位效率，减少稳态抖动，以
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224 | 江苏 | 给我留言 |
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Tornado2000是维普推出针对亚微级精度的晶圆全自动光学检测设备，基于先进的双光路光学成像系统及多种照明方案，以适应各类不同材质的光学成像问题，支持D2D、D2G、C2C、D2DB、AI等检测模
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233 | 江苏 | 给我留言 |
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STORM2000SLH是维普针对于大尺寸Mask开发的缺陷检测设备，适用于LCD、TFT、CF、TouchPanel等大尺寸Mask光刻后的图形缺陷检测。采用先进的光学成像与软件系统，可支持DB、D
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229 | 江苏 | 给我留言 |
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STORM2000SLV是维普针对于大尺寸Mask基板开发的缺陷检测设备，适用于抛光板、铬板、均胶板中颗粒、针孔、脏污的检测。采用先进的光学系统，通过一次扫描可完成颗粒、针孔的识别检测。针对MaskB
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239 | 江苏 | 给我留言 |
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技术特点压印模式：辊对辊压印，UV压印固化（365nm紫外光LED）运行模式：柔性卷材连续运行，单面/双面套准/多层套准,速度1~30米/分钟对位精度：双面套准精度20~100um压印结构：50nm-
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274 | 江苏 | 给我留言 |
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技术特点压印模式：辊对平压印，UV压印固化（365nm紫外光LED）运行模式：单片压印，自动脱模对位精度：套准精度5-10um压印结构：50nm-50um压印面积：200*200（FlexAligne
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257 | 江苏 | 给我留言 |
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Nanocrystal是专门为纳米光学结构制备而设计的无掩模光刻系统，配置了可连续变空频的位相干涉系统，实现亚波长光学结构的亚纳米调控精度制备。该光刻系统采用355nm紫外光源、大数值孔径（NA=0.
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208 | 江苏 | 给我留言 |
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公司概览纳奥米检测科技（山东）有限公司，作为中国科技开发院体系内的重点高新技术企业，承载着国有资本（山东高速基地）的坚实支持，依托国家战略背景，在科技创新与产业服务领域持续深耕。我们汇聚了来自中国科技
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117 | 日本 | 给我留言 |
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公司介绍：德国AMS深耕40余年致力于开发制造：清洁气体中的O2痕量测量（含量低于百万分之一）分析仪；百分比范围内的O2含量测量仪；用于确定沃泊指数、空气需求、密度和热值的分析仪；用于O2和COe测量
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706 | 德国 | 给我留言 |
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Buehnen胶枪HB710HT产品介绍公司简介Buehnen是一家源自德国的热熔胶系统与解决方案提供商，其历史可追溯至1922年。创始人HeinrichBuehnen在德国不莱梅创立了一个机器修理作
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387 | 德国 | 给我留言 |
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公司简介：德国END-ArmaturenGmbH&Co.KG（简称EA）是一家专注于工业阀门设计、制造和销售的名企业，成立于1980年，总部位于德国。该公司以其高质量的产品和创新的技术在全球工
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680 | 德国 | 给我留言 |
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产品介绍二位二通电磁阀NC—常闭型（标准配置）NO—常开型（可选配置）先导式膜片阀所提及的进、出口之间最小压差是确保阀门正常工作的必要条件。在标准常闭型（NC）状态下，阀门依靠弹簧力关闭。控制方式：先
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409 | 德国 | 给我留言 |
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技术特点可选配大功率光源405nmLD、355nmDPSSL（Dpssl355nm激光光源寿命大于20000小时）标准支持12英寸幅面基板，其他幅面可定制多维光刻(偏振曝光、干涉曝光、1024阶3D曝
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283 | 江苏 | 给我留言 |
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Microlab科研型多功能直写光刻系统技术特点可选配光源:405nmLED、405nmLD、355nmDPSSL支持4-8英寸幅面基板高刷新空间光调制无掩模直写自动聚焦3D形貌曝光、干涉曝光、偏振曝
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230 | 江苏 | 给我留言 |
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产品介绍本设备为1L哈氏合金C276材质夹套反应釜，适用于高温、高压、腐蚀性介质的实验与工艺开发。釜体、釜盖、搅拌系统、管路阀门等所有接触物料部分均为哈氏合金C276，具备优异的耐腐蚀性能。配备双层推
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358 | 安徽合肥 | 给我留言 |