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纳米硅肥材料硅肥属于一种中量元素肥料，即可作肥料提供养分，又可作土壤调节剂改良土壤。此外，还兼有防病、防虫和减毒的作用。本公司生产的水溶性纳米硅肥含硅量高，易于吸收，且酸碱度可调，化学性质稳定，可与其
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1385 | 浙江 | 给我留言 |
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高纯二氧化硅纳米催化剂载体材料硅溶胶主要成分为二氧化硅，其分子式通常为SiO2，由于比表面积大、表面活性高以及良好的粘结性、耐温性、凝胶性、荷电性等，可作为一种性能优良的催化剂载体材料。本公司生产的催
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1159 | 浙江 | 给我留言 |
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纳米水泥固化剂材料公司自主研发生产的纳米水泥固化剂，产品无毒无臭阻燃，通过有效渗透5~8mm，与混凝土中的游离钙镁离子发生化学反应，封闭混凝土的毛细孔，使混凝土渗透层更加致密，从而提供强度和耐磨性。性
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921 | 浙江 | 给我留言 |
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纳米抛光材料化学机械抛光(CMP)是集成电路芯片制造过程中实现晶圆全局均匀平坦化的关键工艺，化学机械抛光液是CMP工艺中的核心材料。根据抛光对象不同，公司芯片抛光液产品涵盖氧化硅介电材料抛光液、钨抛光
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1230 | 浙江 | 给我留言 |
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HPCS系列电子级高纯硅溶胶新创纳公司生产的HPCS电子级硅溶胶可用于各种衬底抛光液、IC抛光液、催化剂以及其他需要金属含量低的应用领域。包装方式1、包装方式:25KG、250KG、1000KG2、保
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1133 | 浙江 | 给我留言 |
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催化剂用硅溶胶硅溶胶具有大比表面积和高表面活性，同时还具有良好的粘结性、耐温性、凝胶性、表面电荷可调性等特点，可作为一种性能优良的催化剂载体材料或者催化剂助剂材料。浙江新创纳生产的催化剂用硅溶胶具有产
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987 | 浙江 | 给我留言 |
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真空上料机整体采用负压循环输送模式，全程自动化闭环运行，无需人工干预，整套工作流程分为吸料、过滤分离、破真空卸料、脉冲自清灰四大步骤，循环往复持续作业。设备启动后，真空泵持续抽取料仓与管道内部空气，使
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1843 | 山东德州 | 给我留言 |
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大粒径硅溶胶新创纳公司可以生产5-170nm硅溶胶，粒径越大，控制粒径均匀的难度越高，我们掌握了硅溶胶生产的关键技术能保证粒径均匀一致性。包装方式1、包装方式:1250KG、1350KG2、保存条件:
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896 | 浙江 | 给我留言 |
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小粒径硅溶胶浙江新创纳依赖先进的技术优势，自主研发了不同粒径大小的多种小粒径硅溶胶产品，产品品质稳定，批次一致性好，寿命长，已批量应用于催化剂，无机涂料等领域。
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891 | 浙江 | 给我留言 |
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改性硅溶胶MCS系列改性硅溶胶胶体氧化硅的表面改性能够显著改变其表面电荷、等电点和亲疏水性质。因此，改性硅溶胶在更宽pH范围的水分散体系中的稳定性进一步提高并且和有机溶剂的兼容性得到改善。改性硅溶胶可
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1326 | 浙江 | 给我留言 |
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蓝宝石/衬底/窗口抛光液蓝宝石晶体具有优异的光学性能、机械性能和化学稳定性，强度高、硬度大、耐冲刷，可在接近2000°C高温的恶劣条件下工作，因而被广泛应用于红外军事装置、卫星空间技术、高强度激光等窗
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1238 | 浙江 | 给我留言 |
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石英基板+玻璃抛光液石英基板作为一种重要的半导体基板材料，广泛应用于电子信息、航空航天、新能源等领域。石英基板的主要成分是石英(Si02)，其具有高绝缘性、高热导率、低介电常数等特点，能够满足电子设备
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1180 | 浙江 | 给我留言 |
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钽酸锂/铌酸锂抛光液(LiTa03，简称LT)晶体，是集压电、铁电、热释电、声光及电光等性能于一体的多功能晶体材料，在声表面波(SAW)器件、光通讯、激光及光电子等领域中有着广泛的应用，是制作滤波器和
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1169 | 浙江 | 给我留言 |
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金属抛光液浙江新创纳生产的金属系列抛光液涵盖不锈钢304/316L，铝合金，钛合金，铜等材料的多个系列产品。主要应用在手机、电脑、平板等多种移动终端的不锈钢材质部件，例如边框，镜面logo、摄像头保护
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708 | 浙江 | 给我留言 |
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天津市燕东矿产品有限公司是深耕京津冀地区的大型非金属粉体供应企业，依托天津北辰区自有生产基地，立足本地、辐射华北，在区域矿产品全品类供应领域具备领先优势。公司主营医用防辐射专用硫酸钡、油田加重重晶石粉
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2038 | 天津 | 给我留言 |
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碳化硅(SiC)抛光液碳化硅(SiC)单晶材料作为第三代宽带隙半导体材料的代表，由于其具有禁带宽度大(Si的3倍)、高热导率(Si的3.3倍或GaAs的10倍)、高电子饱和迁移速率(Si的2.5倍)、
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978 | 浙江 | 给我留言 |
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硅片粗抛液、中抛液以及边抛液浙江新创纳自主研发、生产的硅片粗抛液、中抛液、边抛液，采用高纯硅溶胶为料，核心材料自主生产，产品在国内各大晶圆厂已批量使用，成功替代Fujimi、Dow、Cabot等进口品
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666 | 浙江 | 给我留言 |
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升华三维的实验型单喷嘴UPS-Lite是基于粉末挤出打印(PEP)技术打造的桌面级金属/陶瓷3D打印设备,采用单喷嘴设计,可灵活打印陶瓷、金属及其复合材料,满足单一材料的产品开发与制备需求。凭借其紧凑
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2208 | 广东深圳 | 给我留言 |
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硅片精抛液浙江新创纳自主开发出应用于8寸和12寸硅晶圆使用的精抛液。产品采用超高纯硅溶胶为原料，金属离子达到ppb级，满足晶圆加工对表面和残留颗粒的要求，已在客户端验证通过且批量供应。性能指标精抛液S
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997 | 浙江 | 给我留言 |
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芯片抛光液化学机械抛光(CMP)是集成电路芯片制造过程中实现晶圆全局均匀平坦化的关键工艺，化学机械抛光液又是CMP工艺中的最核心的材料。根据抛光对象不同，新创纳公司开发出对应氧化硅介电材料、钨、多晶硅
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1545 | 浙江 | 给我留言 |
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